麻豆传媒

 

麻豆传媒は、主に薄膜太阳电池の製造に用いるレーザパターニング装置を开発しました。

薄膜太阳电池は、ガラス基板の表面に透明电极膜、半导体膜（発电层）、金属膜等が积层されており、それぞれの膜を积层する过程において、回路を形成するためのスクライブ（沟切り）加工を行うパターニング装置が使われています。

现状のパターニング装置のスクライブ速度は２，０００ｍｍ／ｓｅｃ程度であり、太阳电池の低コスト化のために、更なる高速化が求められています。また、発电効率向上のために、スクライブ线の高品质化が期待されています。

今回开発した装置は、特殊なレーザ照射装置と搬送部で构成されており、ガラス基板がレーザ照射装置上を通过すると同时に超高速のスクライブ加工を行うことができるため、従来のガラス基板を停止させ、往復动作をさせながらレーザを照射するスクライブ加工方式等と比べて、生产性の向上や高品质なスクライブ加工を可能としています。

□超高速加工
従来方式の加工速度と比べて、１０～２０倍となる１０，０００～２０，０００ｍｍ／ｓｅｃの世界最速の加工能力を有しており、ガラス基板１枚のパターニングにおける加工时间を大幅に短缩します。

□通过型パネル送り方式
ガラス基板を连続送りしながら高速で加工することにより、従来方式と比べて、タクトタイムを短缩できるとともに、製造ラインに组み込み易くなります。

□高品质のスクライブ线
幅が均一で凹凸やバリの少ない滑らかな沟を加工できるため、非発电领域の最小化や発电効率の向上を実现します。

太阳光発电は、一般住宅用、公共产业用、さらにはメガソーラーと呼ばれる大型発电分野へも利用が进み、着実に成长していく分野として期待されています。当社がターゲットする薄膜シリコン型、化合物型太阳电池製造についても今后大きな伸びが予测されています。

今后は、今回开発したレーザパターニング装置と、すでに発売を开始している高圧ウォータジェット洗浄机を组み合わせ、システムとしても提供していきます。

なお、当社は本装置を、ＰＶ　ＪＡＰＡＮ　２０１１（１２月５日～７日、幕张メッセ）に出展します。

当社は今后成长が见込まれる太阳电池製造设备市场において、高品质?高性能な製品の开発?贩売に注力していきます。

 

【レーザパターニング装置の仕様】

対象基板	薄膜シリコン太阳电池：透明电极膜、シリコン膜、金属膜 ＣＩＧＳ（化合物系）　太阳电池：金属电极膜
最大基板サイズ	１，４００ｍｍ　&迟颈尘别蝉;　１，１００ｍｍ
装置外形寸法	３，５００ｍｍ（Ｌ）　&迟颈尘别蝉;　２，３００ｍｍ（Ｗ）　&迟颈尘别蝉;　１，５００ｍｍ（Ｈ）
スクライブ速度	１０，０００～２０，０００　ｍｍ／ｓｅｃ

 

【レーザパターニング装置　システムイメージ】